Centrum Materiałów Polimerowych i Węglowych jest instytutem Polskiej Akademii Nauk, działającym na podstawie Ustawy o PAN (Dz. U. Nr 96, poz. 619 z dnia 30 kwietnia 2010 roku). Naszym zasadniczym zadaniem jest prowadzenie interdyscyplinarnych badań naukowych nad polimerami i różnymi formami węgla, nad otrzymywaniem i badaniem właściwości nowych materiałów polimerowych i węglowych oraz prowadzeniu prac rozwojowych.
Początki działalności obecnego Centrum Materiałów Polimerowych i Węglowych Polskiej Akademii Nauk datują się na rok 1954, kiedy to Zakład Chemii Organicznej Polskiej Akademii Nauk w Warszawie utworzył Laboratorium Petrochemii w Gliwicach, prekursora obecnego Centrum rozpoczynając w ten sposób działalność badawczą Polskiej Akademii Nauk na Śląsku.
POLYMERS special issue Thermoresponsive polymers
will be guest edited by Prof. Barbara Trzebicka and Prof. Andrzej Dworak
PHARMACEUTICS special Issue Design of Novel Polymeric Systems for Controlled Drug Delivery
will be guest edited by Prof. Janusz Kasperczyk
MATERIALS special Issue Advances in Polymeric Materials for Biomedical Applications
will be guest edited by Prof. Iza K. Radecka and Prof. Marek M. Kowalczuk
POLYMERS special Issue Forensic Engineering of Advanced Polymer Materials
will be guest edited by Prof. Marek M. Kowalczuk and Ph.D. Wanda Sikorska
BIOMOLECULES special Issue Biodegradable Polyesters: From Synthesis to Application
will be guest edited by Prof. Grażyna Adamus and Prof. Marek M. Kowalczuk
MATERIALS special issue Advances in Materials for Organic Optoelectronics and Photonics
will be guest edited by Prof. Ewa Schab-Balcerzak
POLYMERS special issue Polymer Films for Photovoltaic Applications
will be guest edited by Prof. Bożena Jarząbek
Centrum powstało 1 stycznia 2007 r. w wyniku połączenia Centrum Chemii Polimerów PAN w Zabrzu i Zakładu Karbochemii PAN w Gliwicach – dwóch placówek Polskiej Akademii Nauk, które od lat prowadziły systematyczne prace nad wytwarzaniem i właściwościami materiałów makrocząsteczkowych - polimerowych i węglowych.