Patenty

231176, 2018

"Sposób wytwarzania wieleowarstwowej polimeowej powłoki ochronnej materiałów implantacyjnych z funkcją kontrolowanego uwalniania leku"

Zgłaszający:

Uniwersytet Jagielloński

Centrum Materiałów Polimerowych i Węglowych PAN

Autorzy:

M. Brzychczy-Włoch, K. Gębarowska, M.Gołda-Cępa, J.Kasperczyk, A.Kotarba, M.Musiał-Kulik


Numer patentu: 231176

Czytany 1504 razy
Więcej w tej kategorii: « 230303, 2018 232131, 2018 »

Adres i kontakt

Nasz adres:
ul. M. Curie-Skłodowskiej 34
41-819 Zabrze
Telefon/Fax:
Tel. +48 32 271-60-77
Fax +48 32 271-29-69
 
Rzecznik prasowy:
Prof. dr hab. Grażyna Adamus, tel. +48 32 271-60-77 w. 226


 
Inspektor Ochrony Danych:
mgr Paulina Gąsior, tel. +48 32 271-60-77 w. 236
Ten adres pocztowy jest chroniony przed spamowaniem. Aby go zobaczyć, konieczne jest włączenie obsługi JavaScript.


W skrócie

Centrum powstało 1 stycznia 2007 r. w wyniku połączenia Centrum Chemii Polimerów PAN w Zabrzu i Zakładu Karbochemii PAN w Gliwicach – dwóch placówek Polskiej Akademii Nauk, które od lat prowadziły systematyczne prace nad wytwarzaniem i właściwościami materiałów makrocząsteczkowych - polimerowych i węglowych.

image      BIP CMPW PAN