Zgłaszający:
Uniwersytet Jagielloński
Centrum Materiałów Polimerowych i Węglowych PAN
Autorzy:
M. Brzychczy-Włoch, K. Gębarowska, M.Gołda-Cępa, J.Kasperczyk, A.Kotarba, M.Musiał-Kulik
Numer patentu: 231176
"Sposób wytwarzania wieleowarstwowej polimeowej powłoki ochronnej materiałów implantacyjnych z funkcją kontrolowanego uwalniania leku"
Zgłaszający:
Uniwersytet Jagielloński
Centrum Materiałów Polimerowych i Węglowych PAN
Autorzy:
M. Brzychczy-Włoch, K. Gębarowska, M.Gołda-Cępa, J.Kasperczyk, A.Kotarba, M.Musiał-Kulik
Numer patentu: 231176
Centrum powstało 1 stycznia 2007 r. w wyniku połączenia Centrum Chemii Polimerów PAN w Zabrzu i Zakładu Karbochemii PAN w Gliwicach – dwóch placówek Polskiej Akademii Nauk, które od lat prowadziły systematyczne prace nad wytwarzaniem i właściwościami materiałów makrocząsteczkowych - polimerowych i węglowych.